分析测试报告 |
不同C靶功率下薄膜的磨痕深度及曲线 |
Grinding depth and curves of thin films under different C target powers. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车前切削刃100倍SEM |
Cutting edge SEM morphology at 100x magnification before machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
不同C靶功率、温度、负偏压下薄膜的摩擦系数 |
Friction coefficient of thin films under different C target powers etc. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
企业车削1h未镀后刀尖30倍SEM |
SEM morphology at 30x magnification of the uncoated tool tip after 1 hour of enterprise turning |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
不同C靶功率、温度、负偏压下溅射薄膜的位移载荷曲线 |
Displacement-load curves of sputtered thin films under different C target powers etc. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
不同C靶功率、温度、负偏压溅射下薄膜的各元素含量 |
Elemental composition of thin films sputtered at different C target powers. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车31小时俯瞰100倍报告 |
Top-view analysis report at 100x magnification after 31 hours of machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
企业车削1h未镀俯瞰100倍报告 |
Report on the top-view at 100x magnification of the uncoated tool after 1 hour |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
1号刀车前后刀面100倍SEM |
Flank face SEM morphology at 100x magnification before machining with No.1 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
镀膜刀粒车削2h后刀面100倍EDS |
EDS morphology at 100x magnification of the tool flank after 2 hours of turning coated insert |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |