名称 : 不同C靶功率、温度、负偏压下薄膜的摩擦系数
英文名称 : Friction coefficient of thin films under different C target powers etc.
材料 : 2164
委托单位 : 西安工业大学
实验单位 : 西安工业大学
实验方法 : 摩擦磨损试验
实验设备 : 摩擦磨损机
实验条件 : 高温
说明 : 本数据描述了在不同的C靶功率、温度以及负偏压下溅射的高熵氮化物薄膜同测试条件下的摩擦系数。
英文说明 : This data describes the friction coefficients of high-entropy nitride films sputtered under different C target powers, temperatures, and negative bias voltages under the same testing conditions.
数据来源 : 分析测试报告
重点项目名称 : 离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发
项目所属数据集 : 2022YFE0122900分析测试报告数据集