分析测试报告 |
二次时效500℃-0.25h+450℃-0.5h的显微组织 |
Microstructure of secondary aging at 500℃-0.25h+450℃-0.5h |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
二次时效500℃-0.25h+450℃-0.25h的显微组织 |
Microstructure of secondary aging at 500℃-0.25h+450℃-0.25h |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
二次时效500℃-0.25h+450℃-12h的显微组织 |
Microstructure of secondary aging at 500℃-0.25h+450℃-12h |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
二次时效500℃-0.25h+450℃-2h的显微组织 |
Microstructure of secondary aging at 500℃-0.25h+450℃-2h |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
500℃-0.25h+450℃-0.5h+拉伸的显微组织 |
Microstructure of 500℃-0.25h+450℃-0.5h+ tensile |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
冷轧90%+500℃-0.25h+冷轧70%的显微组织 |
Microstructure of cold rolled 90%+500℃-0.25h+ cold rolled 70% |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
冷轧90%+500℃-0.5h+冷轧的显微组织 |
Microstructure of cold rolled 90%+500℃-0.25h+ cold rolled |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-03 |
分析测试报告 |
800L/h连铸坯光学金相 |
800L/h continuous casting billet optical metallography |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-02 |
分析测试报告 |
0.5连铸速度下的连铸坯光学金相 |
Optical metallography of continuous casting slab at 0.5 continuous casting speed |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-02 |
分析测试报告 |
1.5连铸速度下的连铸坯光学金相 |
Optical metallography of continuous casting slab at 1.5 continuous casting speed |
高端集成电路关键材料Cu-Ni-Si合金带材短流程低成本生产关键技术开发与应用 |
2023-04-02 |