阐明硅对低碳IF钢磷化过程的影响至关重要。本工作通过电化学表征与X射线光电子能谱(XPS)、聚焦离子束和透射电子显微镜(FIB-TEM)、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析相结合,对含有0.01wt%、0.1wt%和0.5wt%硅的IF钢的磷酸盐涂层的形成进行了实验测定。证实了IF钢表面形成的硅层主要由Si、SiO2、SiC、Si3+和Fe的氧化物组成。磷化过程中,随着硅浓度的增加,钢表面形成了较厚的硅层,抑制了钢表面的电化学反应。厚硅层严重限制了Me2+、PO43-和H+等离子向基板表面的扩散,导致磷化性能下降。为深入了解IF钢磷化过程,提出了硅的影响机理。