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名称 : 多元硅合金靶材的成品纯度
英文名称 : Product purity of multi silicon alloy target material
材料 : 659
委托单位 : 有研半导体材料有限公司
实验单位 : EAG
实验方法 : 多元硅合金靶材的成品纯度
实验设备 : GDMS仪器
实验条件 : 纯度
说明 :

按照GDMS方法对有研亿金制备的多元硅合金靶材样品进行检测,纯度实际值>99.99%。多元硅合金样品杂质总含量<88.796ppm,靶坯纯度>4N,满足纯度≥4N考核指标的要求。

英文说明 :

GDMS method was used to test the multi-component silicon alloy target samples, and the actual purity value was >99.99%. The total impurity content of multicomponent silicon alloy sample was < 88.796ppm, and the purity of target blank was > 4N, which met the requirements of purity ≥4N.

数据来源 : 分析测试报告
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重点项目名称 : 大尺寸高纯稀有金属制品制备技术-超高纯稀有金属材料精密制备技术数据集

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