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名称 : 不同功率Si靶作用下膜层弹性模量
英文名称 : The elastic modulus of the film layer under the action of Si targets with different powers
材料 : 2164
委托单位 : 西安工业大学
实验单位 : 西安工业大学
实验方法 : 弹性回缩试验
实验设备 : 压力机（弹性测试）
实验条件 : 无条件
说明 :

本数据展示了在不同Si靶溅射功率下的高熵氮化物薄膜，其各自的弹性模量。

英文说明 :

This data shows the elastic moduli of high-entropy nitride films under different sputtering powers of the Si target.

数据来源 : 分析测试报告
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重点项目名称 : 离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发
项目所属数据集 : 2022YFE0122900分析测试报告数据集
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实验设备
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数据来源
重点项目名称
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