国家材料腐蚀与防护科学数据中心
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名称 : 不同Si功率作用下膜基结合力
英文名称 : Film-substrate adhesion under different Si target powers.
材料 : 2164
委托单位 : 西安工业大学
实验单位 : 西安工业大学
实验方法 : 纳米划痕法
实验设备 : 纳米划痕仪
实验条件 : 无条件
说明 :

本数据展示了在不同Si靶溅射功率下的高熵氮化物薄膜，其各自的划痕形貌对比。

英文说明 :

This data presents a comparison of the scratch morphology of high-entropy nitride films under different Si target sputtering powers.

数据来源 : 分析测试报告
附件下载
重点项目名称 : 离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发
项目所属数据集 : 2022YFE0122900分析测试报告数据集
材料
委托单位
实验单位
实验方法
实验设备
实验条件
数据来源
重点项目名称
项目所属数据集
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