名称 : 不同Si靶功率下高熵氮化物薄膜表面和截面SEM和AFM结果
英文名称 : SEM and AFM results of high-entropy nitride films under different Si target powers
材料 : 2164
委托单位 : 西安工业大学
实验单位 : 西安工业大学
实验方法 : 表观形貌
实验设备 : 显微镜
实验条件 : 真空条件
说明 : 本数据展示了在不同Si靶溅射功率下的高熵氮化物薄膜,其表面及截面的SEM图,和AFM图。
英文说明 : This data presents the surface and cross-sectional SEM images and AFM images of high-entropy nitride films under different Si target sputtering powers.
数据来源 : 分析测试报告
重点项目名称 : 离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发
项目所属数据集 : 2022YFE0122900分析测试报告数据集