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名称 : 不同溅射功率-时间-负偏压下的薄膜XRD谱图
英文名称 : XRD patterns of thin films under different sputtering powers, times, and negative bias voltages.
材料 : 2164
委托单位 : 西安工业大学
实验单位 : 西安工业大学
实验方法 : XRD测试
实验设备 : XRD
实验条件 : 洁净无尘
说明 :

本数据展示了在不同溅射功率、时间以及负偏压的情况下，溅射的高熵氮化物薄膜的XRD图谱。

英文说明 :

This data presents the XRD patterns of high-entropy nitride films sputtered under different sputtering powers, times, and negative bias voltages.

数据来源 : 分析测试报告
附件下载
重点项目名称 : 离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发
项目所属数据集 : 2022YFE0122900分析测试报告数据集
材料
委托单位
实验单位
实验方法
实验设备
实验条件
数据来源
重点项目名称
项目所属数据集
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