国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
本数据描述了在不同的C靶功率、温度以及负偏压下溅射的高熵氮化物薄膜的膜基结合力。
This data describes the film-substrate adhesion of high-entropy nitride films sputtered under different C target powers, temperatures, and negative bias voltages.
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