分析测试报告 |
不同C靶功率、温度、负偏压下薄膜的膜基结合力 |
Film-substrate adhesion of thin films under different C target powers |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车前俯瞰100倍EDS |
Top-view EDS morphology at 100x magnification before machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
不同C靶功率、温度、负偏压下薄膜的硬度及杨氏模量 |
Hardness and Young's modulus of thin films under different C target powers etc. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
不同C靶功率,温度,负偏压溅射下薄膜XRD谱图 |
XRD patterns of thin films sputtered at different C target powers. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车前后刀面100倍EDS |
Flank face EDS morphology at 100x magnification before machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车31小时俯瞰100倍EDS |
Top-view EDS morphology at 100x magnification after 31 hours of machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
刀粒车31小时后样品3 |
Sample 3 after 31 hours of machining with the insert |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
企业车削1h未镀俯瞰100倍EDS |
EDS top-view morphology at 100x magnification of the uncoated tool after 1 hour |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
镀膜刀粒车削2h刀尖30倍SEM |
SEM morphology at 30x magnification of the tool tip after 2 hours of turning with a coated insert |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |
分析测试报告 |
2号刀车31小时俯瞰100倍报告 |
Top-view analysis report at 100x magnification after 31 hours of machining with No.2 insert. |
离子轰击条件下反应磁控沉积高熵合金氮化物薄膜技术研究与开发 |
2025-02-28 |