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成分分析

     B10合金在静态海水中浸泡10h后材料表面腐蚀产物膜的XPS全谱图如图2.14所示。图中结果表明，材料在浸泡10h后的氧化膜XPS全谱图主要包括O、Cl、Cu、Na等元素的能量峰，而C、N的能量峰存在应该是空气中C和N2附着在材料表面的结果。

 
    图中结果表明，O元素的能量峰比较强，说明浸泡过程中，材料表面腐蚀产物膜主要由氧化物组成，在932.6eV处的Cu2p3/2能量峰和531.1eV处的O1s能量峰对应为Cu2O,说明材料表面腐蚀产物膜主要是Cu2O.
 
图2.14.JPG
 
 
图2.14 浸泡10h后的氧化膜的XPS全谱图
 
    B10合金在洁净海水中冲刷腐蚀后材料表面腐蚀产物膜的XPS全谱图如图2.15所示。结果表明，冲刷腐蚀后材料表面腐蚀产物膜的XPS全谱图与浸泡10h的情况相似，包括O、Cl、Cu等元素的能量峰，冲刷条件下的腐蚀产物膜成分也主要由氧化物构成。在932.18eV处的Cu2p3/2能量峰和530.5eV处的O1s能量峰对应为Cu2O,说明材料表面腐蚀产物膜主要是Cu2O;但却没有Na元素的能量峰，说明冲刷条件下，NaCl等水溶性较强的物质不易在材料表面附着。
 
图2.15.JPG
 
图2.15 在洁净海水中冲刷腐蚀后氧化膜的XPS全谱图