Adv. Mater.:相称的石墨烯涂层对铜的耐腐蚀性的增强作用
2018-01-12 15:20:05
作者:本网整理 来源:石墨烯联盟
近日,北京大学刘开辉研究员、江颖研究员和韩国基础研究院丁峰教授(共同通讯作者)等人在Adv. Mater.上发表了题为“Greatly Enhanced Anticorrosion of Cu by Commensurate Graphene Coating ”的文章。采用石墨烯涂覆的Cu来研究金属的平面依附性防腐蚀性能,并进一步解决了石墨烯抗蚀能力的矛盾,通过相应的石墨烯涂层为超高性金属的防腐开辟了新契机。
图1. 石墨烯包覆铜的表面依附性氧化
(a)石墨烯涂覆的Cu(100)在干燥的空气中在50℃下氧化4小时
(b)在用水蒸气处理在50℃下处理4小时
(c)在空气中一年
(d)Gr / Cu(100)和Gr / Cu(111)的拉曼光谱证实主要在Cu(100)表面形成Cu2O,而不在Cu(111)上
(e)石墨烯涂覆的Cu(111)氧化4小时并且在50℃水蒸气中
(f)在22℃空气下氧化2.5年后
图2. Gr / Cu系统中的倒易空间表面结构
(a,b)在不同电子能量下获得的石墨烯和Cu(111)的LEED图案。 (c)Cu(111)上的石墨烯晶格的示意图。 碳原子与铜相匹配
(d,e)在不同电子能量下获得的石墨烯和Cu(100)的LEED图案。 石墨烯晶格与Cu(100)显示扭曲角
(f)Cu(100)上的石墨烯晶格的示意图。 碳原子不能与Cu相匹配
图3. Gr / Cu系统中的实空间表面结构和界面耦合
(a,b)分别在Cu(111)和Cu(100)上的石墨烯的STM形貌,显示出两种不同的表面构型
(c)铜(100)上的一维石墨烯起皱的STM形貌。 一维起皱的线轮廓叠加在图像上,表明其高度约为2
(d)这两种配置的dI / dV谱。 在石墨烯/ Cu(100)上可以观察到明显的间隙样特征,而石墨烯/ Cu(111)上没有这种特征。 dI / dV光谱的设定点:0.5V和100pA
图4. 石墨烯涂覆的Cu表面的皱褶和H2O分子吸附形成的理论模拟
(a)和(b)分别为Gr / Cu(111)和Cu(100)相对于起皱高度(定义为从石墨烯的平坦部分到起皱峰值的距离)的相对能量
(c)和(d)分别为平面石墨烯涂覆的Cu(111)和(100)表面与插入H2O分子的侧视图
(e)和(f)分别为裸露和起皱的石墨烯涂覆的Cu(100)表面的吸附水分子的侧视图。同时也给出了四种结构的相应形成能。橙色,灰色,红色和白色的球分别代表Cu、C、O和H原子
本文采用的石墨烯涂覆的Cu来研究金属的小平面依附性防腐蚀,同时研究表明,生长的石墨烯可以保护Cu(111)表面在湿空气中氧化持续2.5年以上,与石墨烯涂层Cu(100)表面的加速氧化形成鲜明对比。进一步的原子尺度表征和初始计算揭示了相称的石墨烯/ Cu(111)的强界面耦合防止H2O扩散进入石墨烯/ Cu(111)界面,而在Cu上的不相称的石墨烯中会形成的一维褶皱(100)促进H2O在界面处的扩散。
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