名称 : 氧化锆薄膜加热前后XRD
英文名称 : XRD of zirconia films before and after heating
材料 : 431
委托单位 : 北京化工大学
实验单位 : 北京化工大学
实验方法 : XRD测试
实验设备 : XRD
实验条件 : 20°-80° 步进0.02°
英文说明 : XRD comparison of zirconia films before and after heating
数据来源 : 透射电镜观察
重点项目名称 : 第三代半导体核心配套材料-新型第三代半导体器件封装胶材料及制备技术数据集