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名称 : 5微米下AHP处理后氧化锆的TEM
英文名称 : TEM of zirconia treated by AHP at 5 microns
材料 : 1107
委托单位 : 北京化工大学
实验单位 : 北京化工大学
实验方法 : TEM
实验设备 : TEM
实验条件 : 真空
说明 :

经碱式过氧化氢(AHP法)处理的ZrO2纳米颗粒在5微米尺度下的TEM图像

所谓AHP法,即在极端碱性条件下,首先采用水热法得到ZrO2的浆液。然后对制备的料浆在碱性过氧化氢中处理,使羟基在ZrO2 NPs表面生长。首先,碱式碳酸锆在pH = 13的碱性环境中通过水解和缩合反应生成了−Zr−O−Zr−网络。H2O2产生的过羟基阴离子(HOO−)促进了碱性环境中ZrO2 NPs表面羟基的生长。之后,Zr-O-Na的结构在酸性环境中被H+交换形成Zr-OH键。

英文说明 :

TEM images of ZrO2 nanoparticles treated with basic hydrogen peroxide (AHP) at 5 micron scale

A two-step procedure is applied in this work to synthesize the ZrO2 aqueous nanodispersion. A slurry of ZrO2 was first obtained from a hydrothermal process under extreme alkaline condition. The as-prepared slurry was then treated with AHP treatment to allow the growth of hydroxyl groups on ZrO2 NPs surface. First, the growth of−Zr−O−Zr−networks from hydrolysis and condensation reaction of zirconium (IV) carbonate basic in the alkaline environment of pH = 13. Second, the perhydroxyl anion (HOO−) produced by H2O2 promoted the growth of ZrO2 NPs surface hydroxyl groups in alkaline environment. Later, the structure of Zr-O-Na could be exchanged by H+ and to form Zr-OH bonds in the acid environment

数据来源 : 透射电镜观察
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重点项目名称 : 第三代半导体核心配套材料-新型第三代半导体器件封装胶材料及制备技术数据集

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